ロードロック式CVD装置
ウエハーの連続熱処理が可能
2種の加熱を自在制御
搬送から熱処理まで全自動制御
概要
本装置はウエハーの熱処理を⾼周波誘導加熱で⾏い、原料等をヒータ加熱で⾏っているハイブリッド加熱を実現しております。
処理枚数は最⼤16枚が可能で、ウエハーストッカーから未処理のウエハーを取出し搬送を⾏い、加熱処理を⾏い、ウエハーストッカーに戻す⼀連の⼯程を全⾃動で⾏います。
熱処理が終わったウエハーを交換する際に⼀旦温度を下げますが、⾼周波誘導加熱を⾏う事で急速に温度を上げることができ、1バッチの時間短縮を可能にしております。
特長
- ウエハーを連続で熱処理が可能
- 最大処理枚数が16枚
- ウエハーの搬送から熱処理まで全自動
- ハイブリット加熱（高周波誘導加熱＋ヒーター加熱）
- 省スペース・省エネの設計
仕様
| 加熱方式 | 高周波誘導加熱 ＋ ヒーター加熱（3ゾーン） |
|---|---|
| 加熱温度 | 最高1200℃ |
| 雰囲気 | 真空置換後不活性ガス雰囲気 |
| ウエハーサイズ | 6インチ |
| 処理枚数 | 16枚 |
