高温急冷アニール装置(RTA炉)
急加熱急冷却を実現した
シャトル方式
6インチウエハーまで熱処理
RSA-04 / RSA-06
概要
RSA装置はイオン注入後の活性化を目的とした熱処理装置です。シャトル方式を採用し、高速昇温、高速急冷を可能にしました。
ウエハー台を多段に重ねることにより、多数枚同時処理が可能な量産装置も御座います。
株式会社イオンテクノセンター様では本製品を使用した、活性化アニール処理を受託で承っておられます。
※新技術の採用により多数枚同時処理が可能になりました(4インチウエハーの場合)。
特長
- 急加熱急冷却装置のため、枚葉対応でもスループットは速くなります
- 反応炉と冷却室が分かれている為、加熱部を常に高温かつ均一に保つことが可能
- 加熱部を常に高温に保っているため、ランニングコストが少なくなります
- 高真空対応になっております。(ドライポンプ+ターボ分子ポンプ使用可能)
- 最高2,000℃まで使用
- 最大4インチで±10℃以下(1,500℃)の面内温度分布を実現
仕様
処理可能寸法 | 4~6インチウエハー |
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加熱温度 | 最高1900℃(ヒーター部は最高2000℃) |
処理時間 | 20min/枚 |
真空度 | 10Pa、オプション仕様は10-3Pa |