高周波加熱式μ‐PD（引下げ）炉
試料テストに最適な研究装置
高周波加熱式結晶育成装置
概要
マイクロ引下げ（Micro-Pull Down）法単結晶育成炉は、るつぼ内で溶解された各種原料をるつぼ底の小ホールからシードを引き下げる事により結晶を育成する装置です。酸化物単結晶の育成、材料物性特性解析に適しています。
仕様
| 加熱方式 | 高周波誘導加熱 |
|---|---|
| 加熱温度 | 最高2400℃ |
| 炉方式 | 真空水冷ジャケットチャンバー |
| 引下速度 | 0.05～200mm/min |
| 制御方式 | コンピュータ制御方式 |
試料テストに最適な研究装置
高周波加熱式結晶育成装置
マイクロ引下げ（Micro-Pull Down）法単結晶育成炉は、るつぼ内で溶解された各種原料をるつぼ底の小ホールからシードを引き下げる事により結晶を育成する装置です。酸化物単結晶の育成、材料物性特性解析に適しています。
| 加熱方式 | 高周波誘導加熱 |
|---|---|
| 加熱温度 | 最高2400℃ |
| 炉方式 | 真空水冷ジャケットチャンバー |
| 引下速度 | 0.05～200mm/min |
| 制御方式 | コンピュータ制御方式 |
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