EFG単結晶育成装置|高周波誘導加熱・通電加熱・抵抗加熱・高周波電源・ホットプレスのことなら

Eng

Menu Close

Contact

  1. HOME > 
  2. 製品案内 > 
  3. 結晶育成装置 > 
  4. EFG単結晶育成装置

EFG単結晶育成装置

抵抗加熱式のCZ(Czochralski、チョクラルスキー)法単結晶育成装置、当社の育成プログラムであるADC制御により自動育成が可能。ホットスタンプ 高温炉 大気炉 真空炉 溶解炉 熱処理炉 真空管式発振機 タングステンヒーター 真空炉 ビレットヒータ 金属加熱 高周波加熱 高周波溶解炉 ホットプレス ハイブリッド加熱 ホットスタンピング 高温炉 溶解炉 高周波溶解炉 通電焼結装置 真空管式発振機 マイクロPD(引下げ) 引下げ装置

シード軸がXYΘに駆動

データロギングが可能

自社製結晶制御ソフト

 

 

 

EFG単結晶育成装置

概要

電力ロスが極めて少ない、未来の半導体素材となる単結晶を育成するEFG育成装置です。

板状、円筒状、角柱状など結晶形状を自在に制御できるEFG育成法を精密に実現しています。

自社製のロードセルを使用し、精密制御が可能な高周波電源と組み合わせることでADC制御が可能です。また、シード軸がXYΘ可動式であるため、細かい調整が可能です。

自社製ソフトウエアを使用しているため、お客様のニーズに合せてソフトの製作が可能で、あらゆるデータの出力が可能です。

 

特長

  • 酸化ガリウム単結晶の育成に使用されています
  • 多様な形状の結晶育成が可能 高速で効率よく結晶の育成が可能
  • コンピュータ制御により制御が容易
  • データロギングが可能
  • 自社製ロードセルと自社製結晶制御ソフトウエアの組み合わせでADC制御が可能
  • シード軸がXYΘで手動調整可能

仕様

ターゲット結晶

2~6インチ

加熱方式 高周波誘導加熱
加熱温度 最高2200℃
雰囲気 不活性ガス
制御装置 ADC機能付き結晶育成装置 
データー出力 温度、結晶重量、各機能部移動速度及び位置情報等 
安全回路 

お問い合わせ

興味をお持ちの方・導入を検討している方、まずはお気軽にご連絡下さい。

042-488-3312

電話受付時間10:00~17:30

メールでのお問い合わせ

PAGE TOP