EFG単結晶育成装置

シード軸がXYΘに駆動
データロギングが可能
自社製結晶制御ソフト
EFG単結晶育成装置
概要
電力ロスが極めて少ない、未来の半導体素材となる単結晶を育成するEFG育成装置です。
板状、円筒状、角柱状など結晶形状を自在に制御できるEFG育成法を精密に実現しています。
自社製のロードセルを使用し、精密制御が可能な高周波電源と組み合わせることでADC制御が可能です。また、シード軸がXYΘ可動式であるため、細かい調整が可能です。
自社製ソフトウエアを使用しているため、お客様のニーズに合せてソフトの製作が可能で、あらゆるデータの出力が可能です。
特長
- 酸化ガリウム単結晶の育成に使用されています
- 多様な形状の結晶育成が可能 高速で効率よく結晶の育成が可能
- コンピュータ制御により制御が容易
- データロギングが可能
- 自社製ロードセルと自社製結晶制御ソフトウエアの組み合わせでADC制御が可能
- シード軸がXYΘで手動調整可能
仕様
ターゲット結晶 |
2~6インチ |
---|---|
加熱方式 | 高周波誘導加熱 |
加熱温度 | 最高2200℃ |
雰囲気 | 不活性ガス |
制御装置 | ADC機能付き結晶育成装置 |
データー出力 | 温度、結晶重量、各機能部移動速度及び位置情報等 安全回路 |